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技术成果
编号 |
232
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类别 | 技术成果 |
项目名称 |
ICP-100 高密度等离子刻蚀系统
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项目简介 |
ICP-100A高密度离子刻蚀系统,是一种速率高精度高损伤小的新型先进刻蚀系统。
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关键字 | |
联系方式 | |
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说明 |
如果对该信息有兴趣,请与我们联系 中国科学院上海国家技术转移中心 咨询电话:021-64315866 |
项目和技术情况 | |
基本信息 |
ICP-100A高密度离子刻蚀系统,是一种速率高精度高损伤小的新型先进刻蚀系统。它是在国家重点科技项目“高密度等离子体刻蚀技术的研究”的成果ICP-98A系统基础上改进的,可加工深亚微米及纳米图形,实现深硅刻蚀、蓝宝石图形刻蚀等工艺。该系统适用于科研实验和小规模生产。
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资金需求 |
面议
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可出让的股份比例 |
面议
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是否已转化 |
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附件 |
无
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其他 | |
备注 |
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